为了避免光刻胶线条倒塌，线宽越小的光刻工艺，如🎾🖭目前的32n28n22n刻，对光刻胶的要求高的离谱，所需厚度越来越薄。
2🂑🎂🎎2n光刻技术制程，光刻胶的厚度要求🖅达到了是1🎾🖭00n右。
太厚曝光不足，太薄又无法有效的形成光阻，不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀，非常的麻烦，必须要严格🝣🌺🄉按照标准来镀膜。
钟子星与江浩然两人都穿着白大衣，带着护目镜和口罩，🕶身边还跟着几位助手，独占一间实验室。
“第20次实验，厚度依然无法达标……”
江浩然操作着一台电子显示器📐，屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现，均匀分布，🅵🔺但是远远无法达到顶尖的水准。
稍微低端的刻蚀足够，但绝对📐无缘顶级市场。🗇
“得从其他方面入手！”
“比如加入一些别的🀦⚫🔕材料？硅材料或😞碳材料！”钟子星双手扶着白色的实验台，陷入沉思。
以传统的方式进入光刻胶领域，想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的，📬得走一走别的路才行🚭🖫。
“试试看，开始第21次实验！”
科研就是在失败中前进，没有人能形容找到路时那种心情，重要的是敢于尝🛟试。
“好！”江浩然话不多，能动手绝不多说。
两人加上数个助🇶🝆🈷理立刻开始投入新的实验，在🗇光刻胶中加入其他材料，无论是光敏强或弱，都在试验范围之内。
把含硅光刻胶旋涂在一🖬🕫🌢层较厚的聚合物🗝🜥材料，设想中，🁺🔌其对光是不敏感的。